光敏印章

光敏印章是上个世纪九十年代初由日本发明的，它是由一种特殊的化工合成材料，通过专用设备瞬间发出强光辐射，使材料表面发生光氧化及热交联作用从而制成的印章。

作为国际上最新型的一种印章，它以制作简单快捷，印章清晰，使用寿命长，适用性强，在我国得以迅速推广，成为我国印章行业升级换代产品，随着公安部标准GA241.9―2000的颁布实施，光敏印章已被认定为符合标准的首选印章。